Le système DMA Objective Focus Stage vise les applications d’imagerie et de métrologie nécessitant des temps de stabilisation rapides et une précision nanométrique.
Zaber Technologies annonce le lancement du système DMA Objective Focus Stage, une platine de mise au point basée sur un moteur linéaire conçue pour les applications OEM en microscopie et en imagerie de précision. Le système affiche une répétabilité de 50 nm et des déplacements incrémentaux minimums de 10 nm, avec des temps de déplacement et de stabilisation inférieurs à 15 ms. Le DMA combine contrôleur intégré, architecture compacte et connectivité simplifiée afin de réduire les contraintes d’intégration dans les systèmes d’imagerie. Zaber met également en avant des outils d’optimisation sans programmation ainsi qu’une API open source compatible avec plusieurs langages de développement.
« Le DMA offre le meilleur des deux mondes : la précision nanométrique et la stabilisation rapide d’un système piézoélectrique, combinées à la capacité de charge et à la longue course d’un système à entraînement direct », explique Mike Fussell, chef de produit chez Zaber Technologies. Le système cible notamment des applications en biologie spatiale, pathologie numérique, découverte de médicaments et inspection de semi-conducteurs. Sa conception permet également de connecter plusieurs modules de positionnement à l’aide d’un seul câble d’alimentation et de données, afin de limiter l’encombrement dans les systèmes de mesure complexes.
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